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硅碳棒在真空氣氛箱式爐內(nèi)對(duì)氣氛的影響

作者:洛陽(yáng)炬星窯爐國(guó)炬電爐 發(fā)布時(shí)間:2022-03-24 瀏覽次數(shù):1178
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  隨著需控制真空氣氛箱式爐氣氛要求的增加,關(guān)于在不同氣氛中使用硅碳棒的注意事項(xiàng)也變得越來(lái)越重要。而且,在燒成中與處理物揮發(fā)出來(lái)的各種化學(xué)物質(zhì)之間的反應(yīng)也同樣需要注意。

    所以,針對(duì)特殊氣氛和腐蝕性物質(zhì),我公司開(kāi)發(fā)了各種防止硅碳棒快速老化的涂層。選用適當(dāng)?shù)耐繉涌梢匝娱L(zhǎng)硅碳棒的壽命。無(wú)論在哪種氣氛中都最好讓表面負(fù)荷盡量小。

    氣氛影響對(duì)策推薦涂層水蒸氣和濕氣比在干燥大氣中的使用壽命縮短1/5新真空氣氛爐試運(yùn)行或者舊爐子長(zhǎng)時(shí)間不工作再使用時(shí),要先低溫充分干燥后再升溫。
   U涂層氫氣硅碳棒溫度上升到1350℃以后電阻急速增加,機(jī)械強(qiáng)度也下降。而且根據(jù)氣體干濕的不同壽命也差別很大。
建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量?。?W/cm2)。
  氮?dú)鉁囟瘸^(guò)1400℃時(shí)氮?dú)馀c碳化硅反應(yīng)生成氮化硅,使硅碳棒變脆,壽命縮短。受露點(diǎn)的影響與氫氣的狀況相同建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量小(5W/cm2)。
  N涂層氨氣(H275%)、(N225%)與氫氣、氮?dú)獾臓顩r相同。
  建議在真空氣氛箱式爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量小。
  N涂層分解反應(yīng)氣體(N2、CO、CO2、H2、CH2混合物)加熱過(guò)程中硅碳棒表面附著分解后的碳黑,造成棒體疏松。
  經(jīng)常向真空氣氛箱式爐輸送空氣,讓多余的碳燃燒。在真空氣氛爐構(gòu)造方面,保持硅碳棒間足夠的間隔以防止短路。
  N涂層硫(S、SO2)硅碳棒溫度升到1300℃以后,硅碳棒表面被侵蝕、電阻急劇增加。
  將硅碳棒溫度控制在1300℃以下。
  N涂層其他由被處理物產(chǎn)生的各種物質(zhì),如鉛、銻、堿金屬的化合物與硅碳棒反應(yīng),使其壽命縮短。
  預(yù)先將這些物質(zhì)從處理物中除掉,真空氣氛爐設(shè)排氣口以便減弱其影響。
  H涂層S涂層。


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